Molex公司子公司Polymicro Technologies最近宣布提升其 FDP 光纤产品的性能，最新的性能改善了光纤产品在深紫外光应用(190nm - 325nm)中的负感性(solarization)。

    Polymicro公司的 silica 内芯 FDP光 纤具有超高紫外光传输和超低紫外光曝晒特性，并有出色的耐辐射能力。 FDP 光纤可在低至190nm的条件下运作，并且具有出色的深紫外光耐曝晒特性，让它成为深紫外光领域应用的首选。新型 FDP 光纤提供了更好的耐曝晒性能，可维持更长的传输时间，同时还对光纤的损坏降到最低。

    Polymicro Technologies全球产品经理Teodor Tichindelean表示，光纤 FDP 的推出是紫外光应用的一项革新，Polymicro具有更好质量的增强型 FDP 光纤产品，可承受紫外光的曝晒。同时，与先前的产品相较，改善过的FDP光纤在初始退化之后可将光输出提高大约10%。对于Polymicro客户，这可以转化成更好的光发射和更长的产品寿命。

    对于深紫外光领域应用，高强度紫外光辐射的影响会引起光纤及传输的退化；光纤传输损耗通常会在数小时后发生。

    Polymicro FDP光纤提供尺寸控制和紧密容差，并有一系列选项可供选择，包括客制化的内芯尺寸、涂层、缓冲存储器和配件。Molex和Polymicro设备已通过了ISO 9001、13485和14001认证。